SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)-凱戈納斯儀器商貿(mào)（上海）有限公司

SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設備SAN2000Plus，鍍膜設備，SVE2000Plus蒸鍍設備，SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設備搭配；

SAL-3000pus+轉(zhuǎn)移倉.png

SAL-3000Plus SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus

性能及特點：

1.鍍膜質(zhì)量高
· 膜厚均勻性≤3% @ 100mm
· 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性；
· 膜厚可準確控制達一個原子層；
· 大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free）
· 極高的重復性及穩(wěn)定性
· 材料缺陷密度低
· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度）
2.兩種成膜方向可選
· 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面，薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風險。
3. 可通過STR2000與其它Plus系列設備串聯(lián)
4.最多可搭載6路前驅(qū)體
5.優(yōu)異的真空性能：真空度≤5Pa
6.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲30多種鍍膜方案
7.與SAL3000相比，寬度減少了40％
6. 可搭配多種配件：
干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設備等；

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